光氧離子法除臭設(shè)備的工藝原理介紹

 

          一、光氧離子法除臭設(shè)備工藝原理如下：

 

          1、使用高能高臭氧紫外線光束分化空氣中的氧分子發(fā)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，從而發(fā)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有較強的氧化作用，對有機氣體及其它刺激性異味有鏟除作用。有機性氣體使用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，運用高能紫外線光束及臭氧對有機(異味)氣體進行協(xié)同分化氧化反響，使有機氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再經(jīng)過排風(fēng)管道排出室外。

 

　　    2、高能離子空氣凈化系選用正負電離技能。在電場作用下，離子發(fā)生器發(fā)生很多的a粒子，a粒子與空氣中的氧分子進行磕碰而構(gòu)成正負氧離子。正氧離子具有很強的氧化性，能在較短的時刻內(nèi)氧化分化甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子，且在與 VOC 分子相觸摸后翻開有機揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵，經(jīng)過一系列的反響后，生成二氧化碳和水等安穩(wěn)無害的小分子。

 

　　    3、催化劑(二氧化鈦)在遭到紫外線光照耀時生成化學(xué)生動性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，進犯有機物，到達降解有機物的作用。二氧化鈦歸于非溶出型資料，在分化有機污染物和殺滅菌的一起，本身不分化、不溶出，光催化作用耐久，并具有耐久的滅菌、降解污染物作用。

 

           二、 光氧離子法除臭設(shè)備功能介紹

 

　　    1、降解有機化學(xué)物：光氧離子法除臭設(shè)備能去除揮發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等***要污染物，以及各種惡臭味，脫臭功率可達99.9%以上，脫臭作用******超越1993年公布的惡臭污染物排放規(guī)范(GB14554-93)。

 

　    　2、無需增加任何物質(zhì)：光氧離子法除臭設(shè)備只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使氣體經(jīng)過本設(shè)備進行脫臭分化凈化，無需增加任何物質(zhì)參加化學(xué)反響。

 

　    　3、習(xí)慣性強：光氧離子法除臭設(shè)備可習(xí)慣高濃度，***氣量，不同有機化學(xué)氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時接連作業(yè)，運轉(zhuǎn)安穩(wěn)牢靠。

 

　    　4、運轉(zhuǎn)成本低：光氧離子法除臭設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人辦理和日常保護，只需作定時查看，本設(shè)備能耗低，(每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能)，設(shè)備風(fēng)阻較低<30pa,可節(jié)省很多排風(fēng)動力能耗。