低溫等離子除臭設(shè)備的工作原理及工藝分析

 

 

低溫等離子除臭設(shè)備***別高能高紫外線光束暴露在太陽的紫外線惡臭,開裂有氣味的氣體如氨、三甲胺、硫化氫,硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯,硫化H2S,揮發(fā)性有機化合物,分子鏈結(jié)構(gòu)的苯、甲苯、二甲苯、有機或無機聚合物有氣味的化合物分子鏈,高能光束照射在太陽紫外線下，分解為低分子化合物，如CO2、H2O等。

低溫等離子除臭設(shè)備利用高能、高臭氧的紫外紫外線光束分解空氣中的氧分子，產(chǎn)生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合。

UV+O2 O-+O *(活性氧種類)

有惡臭的氣體輸入后的凈化設(shè)備排氣設(shè)備,凈化設(shè)備使用高能束UV紫外線和臭氧進行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)有惡臭的氣體,所以有惡臭的氣體物質(zhì)降解成低分子化合物,水和二氧化碳,然后通過排氣管的戶外解除。

低溫等離子除臭設(shè)備利用高能紫外光束，裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，通過臭氧進行氧化反應(yīng)，完全達到除臭殺菌的目的。